幾種真空鍍加工技術

1、蒸發鍍膜設備與(yu) 技術

真空蒸發鍍膜設備主要用於(yu) 在經予處理的塑料、陶瓷等製品表麵蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不鏽鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等,從(cong) 而獲得光亮、美觀、價(jia) 廉的塑料,陶瓷表麵金屬化製品。廣泛應用於(yu) 工藝美術、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋後跟等領域, JTPZ多功能鍍膜技術及設備（加有射頻等離子體(ti) 聚合的蒸發鍍膜機），針對汽車、摩托車燈具而設計的，在一個(ge) 真空室內(nei) 完成蒸發鍍鋁和射頻等離子體(ti) 鍍保護膜，這種鍍膜後燈具具有“三防”功能。射頻等離子體(ti) 聚合膜還應用於(yu) 光學產(chan) 品、磁記錄介質、軍(jun) 事國防保護膜；防潮增透膜；防鏽抗腐蝕；耐磨增硬膜。 用戶選擇在燈具基體(ti) 上噴底漆、鍍鋁膜、鍍保護膜或燈具基體(ti) 在真空室進行前處理（不噴底漆）、鍍鋁膜、鍍保護膜工藝。

2、真空鍍加工的等離子擴滲鍍膜設備及技術；離子滲氮：

可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nei) 部、明顯提高表麵硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對於(yu) 總體(ti) 滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表麵性能可控，可用於(yu) 各種鋼鐵及鈦合金結構件，各種模具和各種不鏽鋼製品。 等離子體(ti) 化學氣相沉積設備與(yu) 技術(離子滲氮，氮碳共滲) 等離子體(ti) 化學氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈衝(chong) 直流等離子體(ti) 輔助沉積硬質鍍膜新技術。在一定壓力、溫度的真空爐內(nei) ，加入適當比例的不同工作氣體(ti) ，在脈衝(chong) 電壓的作用下，通過輝光放電產(chan) 生均勻等離子體(ti) 。在不同工藝條件下，可在被處理工件表麵形成各種硬質膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層複合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。與(yu) CVD和PVD相比，PCVD技術可實現離子滲氮、滲碳和鍍膜在同一爐內(nei) 依次進行，快速地實現滲透複合工藝。該設備適用於(yu) 要求提高表麵耐磨損、耐腐蝕、抗高溫氧化的零部件和工模具。被處理材料主要包括：高速鋼、冷熱鋼、冷熱模具鋼、結構鋼、不鏽鋼、鈦合金、硬質合金等。